难道发展芯片，就一定要光刻机吗？中国可以用其它技术取代吗？

    最近，美国收紧了出口管制，台积电不再接受华为新的订单，中芯国际虽然能够生产14nm工艺的芯片，突破了N+1、N+2制程工艺，然而中芯国际使用的光刻机仍然来自于荷兰ASML，含有“美国技术”，是否受到管制条款制约，还是个问题。那么，我国发展芯片能够绕过光刻机吗？

    什么是光刻机？    光刻技术与照相技术差不多，照相机是将镜头里的图像印到底片上，而光刻机是将电路图“刻到”硅片上。在光刻工艺中，将涂满光敏胶的硅片作为“底片”，电路图经过光刻机，缩微投影到“底片”上，制作芯片的过程，就是重复几十遍这样的过程。最终，指甲壳大小的芯片上集成了上百亿个晶体管。

    目前，光刻机的龙头企业是荷兰的ASML，几乎占领了100%的高端光刻机市场，最先进的EUV光刻机只有荷兰ASML能够生产。造价高到1.5亿美金的EUV光刻机，集成了全球最先进的技术，来自美国的光源和计量设备，来自德国的镜头的超精密设备，来自法国的阀件，来自瑞典的轴承等等，可以说集人类智慧于大成。

    早在2018年，我国的中芯国际从荷兰ASML那里预订了一台EUV光刻机，然而受到美国的影响，至今未收到这台光刻机。中芯国际虽然突破了N+1、N+2工艺，然而后续的5nm、3nm工艺仍然离不来EUV光刻机，形势依然很严峻。

    我国的光刻机    我国生产光刻机的企业是上海微电子，成立于2002年，由于起步较晚，因此在光刻机领域与荷兰AMSL仍然有很大的差距。上海微电子能够量产的光刻机是90nm制程，而荷兰AMSL最先进的EUV光刻机可以生产5nm工艺制程的芯片，根据科学家的说法“至少有20年的差距”。最新消息，上海微已经突破了28nm工艺的光刻机，大大降低了与荷兰ASML的差距，希望能够尽快量产。

    总之，光刻机是半导体行业最重要的设备之一，是“沙子变芯片”最重要的设备。离开光刻机，玩不转芯片，离开高端光刻机，玩不转高端芯片。目前，还没有替代设备能够代替光刻机。

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