中国28mm光刻机明年如交付，会对世界电子产品格局有什么影响？

现在电子产品的芯片制程已经达到了10纳米，7纳米正在向着5纳米和3纳米制程工艺进发。目前世界电子产品界对极紫外EUV光刻机需求较大，而对深紫外DUV光刻机的需求没那么大。说句不好听的话28纳米工艺制程已经落后了，因为它是2011年时的技术，距今已经过去了9年。即便是上海微电子将于2021年交付制程为28纳米的光刻机，那对制程工艺要求苛刻的电子产品来说影响也不大。

因为芯片的制程工艺越小，就意味着其功耗越低，性能越强，散热能力越强。就拿高通骁龙855和845处理器来说，高通骁龙855处理器采用的是7纳米制程工艺，而高通骁龙845采用的是10纳米制程工艺，但是855处理器的性能要比845强了45%，图形处理上强了20%。除了设计带来的性能提升外，其他就全靠制程工艺了。所以说，电子产品对制程工艺的追求是无止境的，越低越好。

或许，国产28纳米制程的光刻机对电子产品没有影响，但是对于其他对制程工艺要求不高的行业影响还是挺大的。如:国防工业，运营商基站芯片，工业芯片，超级计算机。只要有了28纳米制程工艺的光刻机，那么国内以上这些行业所需要的芯片就不会受制于人，完全可以实现独立自主。当然除了实现独立自主之外，还可以将以上行业芯片的性能提高一个级别。由此可知，量产28纳米制程工艺的芯片，对国内的制造业，国防工业有着重大的意义。虽说在商业应用上被国外卡脖子，但是涉及到重要的国防工业，重工业可以做到独立自主已经不错了。

在国外制裁的今天，国产28纳米制程工艺的DUV光刻机的部件全部是国产的。其重要的镜头组来自于国望光学，掩膜台应该来自国内哪个企业还不清楚，不过清华大学在2014年就制造出了工件台样机，并且指标实测达到MA2.2纳米，MSD4.5纳米，我国也是世界上第二个，掌握该技术的国家。在7年之后的2021年，国产工件台的精度在上一个台阶也没有大问题。说到DUV光源技术，我国称第二，没有哪个国家敢称第一。毕竟KBBF晶体的技术领先国际1-2代，制造出合适的光源也不存在难题。在光刻机三大重要部件都突破后，制造出28纳米制程工艺的光刻机也就顺理成章了，可以说，在11纳米制程工艺之前的技术，国内都不会被卡脖子了。

要知道，米国可以为了一己之利，全力制裁一个企业，这就让世界各国看清楚了米国的面具下藏的真实意图。我国在28纳米制程光刻机突破后，完全可以对外出售到那些害怕被制裁的国家，以打出光刻机出口的一个突破口。趁着全球各主要强国在产业上去美国化的进程，加紧研发更先进的光刻机，以实现对外出口。总体而言，国产28纳米制程工艺的光刻机，对现有的电子产品领域造不成什么影响，但是对于国内相关企业的意义是十分重大的。