ASML售卖光刻技术2022最新动态：韩处理芯片商购买High-NA

据 etnews称，三星电子和 SK 海力士向光刻技术大佬 ASML 购买了下一代半导体行业 High-NA 极紫外光（EUV）机器设备。继tsmc和intel以后，韩国半导体生产商也在开始引入可以实现 2nm 工艺技术机器设备。对最先进工艺之间的竞争预计加重。

在 10 月 19 日的财务报告中，ASML 表明：“在 EUV High-NA 业务上，ASML 收到 TWINSCAN EXE:5200 的附加订单信息；现阶段每一个 EUV 客户都已提交 High-NA 订单信息。”High-NA EUV 机器设备是把集光水平的画面数值孔径（NA）从 0.33 提升到 0.55 的机器。比已有的 EUV 机器设备解决更细致的半导体材料电源电路。业内多数人觉得，High-NA 机器设备对 2nm 加工工艺尤为重要。

NA （NumericalAperture） 称之为数值孔径，是光学设备的一个重要指标值，一般光刻技术机器设备都是会标明该指标值标值。

在今年的 9 月，ASML 表明正准备向客户交付第一台 High-NA EUV 光刻技术，大约会到来年某一天点进行。

intel和tsmc早已官方宣布引入 High-NA 的 EUV 机器设备。intel去年公布融合半导体公司 （IDM 2.0） 的形式，目的在于再次进到代工生产销售市场时，公布她们是第一个下定了 High-NA EUV 机器设备订单信息。是为了根据提前引进下一代机器设备来追逐台积电和三星电子的系统软件半导体材料生产量。tsmc也公布了购买 High-NA EUV 机器设备合同，但三星电子和 SK 海力士并没有提及一切有关合同内容。伴随着 ASML 的这一公布，韩国半导体生产商引入 High-NA 机器的作法已正式明确。但是，三星电子和 SK 海力士表明，有关 High-NA EUV 机器的引入，“这也是不可以宣布公布的事儿”。ASML 已有的 EUV 机器设备顾客包含三星电子、SK 海力士、intel、tsmc、美光科技等。

因为全世界每一个半导体设备企业都向 ASML High-NA EUV 机器设备落了订单信息，预估从 2025 年起大批量生产时，激烈竞争将进行。High-NA EUV 机器设备比现阶段所使用的 EUV 机器设备更价格昂贵，但它能够一次性完成超细致加工工艺（一次图案化），这样可以极大地提高生产主力。就三星电子来讲，必须在 3nm 批量生产后提前保证 High-NA EUV 机器设备用以 2nm 批量生产。已有的 EUV 机器设备可能必须 2000 万美元（约 10.08 亿人民币）至 3000 万美元（约 15.12 亿人民币），而人民币 EUV 机器设备可能需要投入 5000 万美元（约 25.2 亿人民币）。