国产光刻机能实现多少nm工艺制程？

    国产光刻机90nm制程工艺，荷兰ASML光刻机7nm制程工艺，按照专家的说法，至少有15年的差距。制程工艺的差距，主要体现了我国和西方发达国家在精密制造领域的差距。

    光刻机的格局    目前，光刻机市场几乎被荷兰ASML、日本尼康和佳能、上海微电子四家所垄断。在这里面又分为三个梯队，荷兰ASML垄断了高端光刻机市场份额，日本尼康和佳能处于中端市场，同时竞争低端市场，而上海微电子只有低端市场。

    上海微电子（SMEE）成立于2002年，成立之初到荷兰ASML参观见学，被调侃“即使把图纸和元件全部给你们，你们也装配不出来”。上海微电子经过自力更生，硬是打了国外公司的脸，2007年研制成功了90nm制程工艺的光刻机。

    世界最先进的光刻机厂商是荷兰的ASML，7nm EUV光刻机只有荷兰ASML能够生产。我国大陆的晶圆代工厂中芯国际，大部分使用的ASML的高端光刻机，已经量产14nm工艺芯片，突破了N+1、N+2工艺，然而后续的先进制程工艺仍然需要EUV光刻机。中芯国际早在2018年就成功预定了EUV光刻机，然而受到各方面因素的阻挠，至今未收货。

    差距在哪里？    从2007年，上海微研制成功90nm制程，至今13年过去了，上海微仍然停留在量产90nm制程工艺光刻机，这是为什么呢?

    上海微电子与荷兰ASML光刻机领域的差距，反映了我国和西方发达国家在精密制造领域的差距，一台顶级的光刻机，90%的关键零部件来自不同的发达国家，美国的光源和计量设备、德国的镜头、瑞典的轴承、法国的阀件等等，根据所谓的《瓦森纳协定》，这些顶级零部件对我国是禁运的。

    上海微电子是一家系统集成商，自己不生产关键零部件，所以做不出22nm以下的高端光刻机，也不是它的责任。消息称，上海微电子已经突破了28nm制程工艺的关键技术，然而受到供应链的影响，量产时间还未确定。

    就目前的形势而言，只能做好中低端领域，慢慢培养国内供应链，逐步向中高端光刻机领域发展。

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【落后就要挨打，我国已经生产出首台7纳米，有望今年开始投产，国内光刻机的春天就要来了】

制约国内芯片发展的不是芯片设计技术，而是芯片的设计和制作工艺。俗话说“落后就要挨打”，这几年国内通过不断的研发和升级，今年终于做出了首台7纳米工艺的光刻机。并且有望今年开始投产。

国内生产光刻机的公司有多少家在国内生产光刻机的企业其实不少，主要的以下面5家为主，

上海微电子装备有限公司中子科技集团公司第四十五研究所国电合肥芯硕半导体有限公司先腾光电科技有限公司无锡影速半导体科技有限公司国产光刻机能实现多少nm工艺制程？

目前国内量产的光刻机可达到14nm的工艺技术啊，中芯国际在去年就正式投产，首批采用了中芯国际14nm制程工艺的麒麟芯片也已经正式交付。中芯国际负责人梁孟松曾表示，中芯国际7nm工艺制程有望在今年第四季度投产。以便达到国际的先进水平。

总结一下无论是光刻技术还是芯片设计，技术难度都非常大，需要投入大量的人力和物力，我国也在研发方面支持力度也是非常大，通过自己的努力一步步打破技术封锁，最终达到国际先进水平。